Sistemas de Cultivo

Combinación de UV, ozono y agua oxigenada es un método adecuado para tratar el agua de cultivo de rotíferos

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By Milthon Lujan

Coquimbo, Chile.- Los rotíferos constituyen uno de los alimentos principales en el cultivo de peces; sin embargo, las bacterias presentes en las aguas utilizadas en su cultivo son una fuente importante de infección y pueden causar enfermedades en los peces.

Existen tecnologías alternativas para reducir o eliminar el nivel de bacterias y virus presentes en los sistemas acuícolas intensivos, reduciendo los riesgos ambientales y los costos operativos. Entre ellos, el uso de procesos avanzados de oxidación (AOP) pueden ser un método útil.

Científicos de la Universidad Católica del Norte, del Centro Aquapacífico y de la Universidad de Chile estudiaron el efecto del uso de procesos de oxidación avanzados (AOPs), específicamente el peróxido de hidrógeno (H2O2), rayos ultravioleta (UVc) y ozono (O3), y los procesos post o pre tratamiento en la depuración de los efluentes de la acuicultura para su uso en el cultivo de rotíferos.

“Los resultados obtenidos son muy prometedores debido a que fue posible inactivar el 100% de bacterias presentes cuando se utilizó UVc/O3/H2O2 y UVc/H2O2, requiriendo 20 y 80 min para la inactivación de Vibrio spp. y bacterias cultivables totales, respectivamente. Estos resultados se explican debido a la acción entre H2O2 y UVc, que produce una gran cantidad de radicales hidroxilo, que son la base de estos procesos” dijeron los científicos.

Ellos concluyen que el uso de H2O2/UVc/O3 y H2O2/UVc) es un método de tratamiento muy útil en el tratamiento de los efluentes de la acuicultura y pueden ser considerados para proyectos que necesiten agua libre de bacterias y microorganismos patogénicos.

Referencia (abierto):
Poblete-Chávez Rodrigo, Cortés-Pizarro Ernesto, Rojas-Araya Rodrigo. Tratamiento de agua de mar para el cultivo de rotíferos mediante procesos de adsorción y oxidación avanzados. Lat. Am. J. Aquat. Res.  [Internet]. 2016  Sep [citado  2016  Nov  06] ;  44( 4 ): 779-791. Disponible en: http://www.scielo.cl/scielo.php?script=sci_arttext&pid=S0718-560X2016000400013&lng=eshttp://dx.doi.org/10.3856/vol44-issue4-fulltext-13.

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